피에스케이의 경우, 분기 보고서를 참고하면 Wafer Edge Clean 기술, 차세대 New Hard mask strip 기술 등에 관한 연구 개발이 이루어졌고, R&D Campus 신축을 계기로 신제품 연구개발 속도에 박차를 가할 것으로 전망된다. 중장기적으로 피에스케이가 본사 및 R&D Campus를 효율적으로 활용한다면, 본사에서의 반도체 장비 생산능력 향상을 직, 간접적으로 기대할 수도 있다.
이번 발표 내용은 주가 구성 요소에 즉각 반영할 요인은 아니지만 중장기적으로 멀티플 레벨업에 기여하는 내용이라고 판단된다. 피에스케이 주가 전망에 참고할 필요가 있겠다.
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