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지난 주 에스앤에스텍에서 EUV 관련 추가 시설투자 공시를 알려오면서 국내 소부장 기업들도 EUV 바람이 불고 있는 중. 지난 과거에는 스토리에 지나지 않았다고 한다면 이제 점점 가시성을 확보해가고, 상용화도 코 앞에 있는 상황으로 볼 수 있음.
에스앤에스텍은 포토마스크의 원재료가 되는 블랭크마스크와, 미세 입자를 차단하는 펠리클을 EUV용으로 연구개발 및 양산을 위한 110억원 가량의 신규 시설 투자 공시를 알려온 것. 아직 EUV 펠리클 시작은 본격적 개화를 하지 않은 상황인데, 5nm 미만 공정에서부터는 필수적으로 여겨지고 있어 기회의 시장으로 관심을 받고 있던 상황.
특히 에스앤에스텍은 EUV 노광기술개발사업단 단장을 하셨던 안지호 한양대교수님께 특허를 이전받아 공동연구개발을 했기 때문에 큰 관심을 받은 상황. 기존 펠리클 업체인 에프에스티보다 관심을 받으며 멀티플 프리미엄을 부여받게된 것. 이런 에스앤에스텍에서 시설투자공시를 알려온 것으로, 양산까지 시점이 머지 않았다고 분석해볼 수 있는 것.
실제화 된다면 멀티플 프리미엄을 합리화 할 수 있고, EUV 펠리클 ASP가 높을 것으로 전망되고 있기 때문에 실제 실적 레벨업이 가능할 것. 에프에스티도 EUV 펠리클 시장개화 관점에서 함께 강세를 보임. 금요일에는 당사자가 아니기 때문에 매물출회 모습을 보여줬지만, EUV 펠리클 시장개화에 초점을 맞춰서 긍정적으로 살펴볼 필요가 있다는 판단.
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